Banca de DEFESA: FABRICIO AUGUSTO DOS SANTOS RODRIGUES

Uma banca de DEFESA de DOUTORADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: FABRICIO AUGUSTO DOS SANTOS RODRIGUES
DATA: 19/09/2023
HORA: 14:00
LOCAL: videoconferência
TÍTULO:

ELETRODEPOSIÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE REVESTIMENTO DE COBRE/NANOTUBOS DE CARBONO DOPADOS COM IODO EM FIOS DE ALUMÍNIO LIGA 1350

PALAVRAS-CHAVES:

Nanotubos de Carbono, Eletrodeposição, Linhas de Transmissão, Cabos de Alumínio, Cabos elétricos nanoestruturados.

PÁGINAS: 100
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia Elétrica
RESUMO:

Nanocompósitos baseados em cobre e nanotubos de carbono (Cu/NTC) em matriz metálica vem proporcionando melhorias nas propriedades elétricas e térmicas dos materiais, apresentando grande potencial de aplicação em áreas como o setor elétrico. Grandes desafios são encontrados na transmissão e distribuição de energia elétrica, como perdas técnicas, principalmente por efeito Joule, resultando em baixa eficiência dos condutores convencionais de alumínio (Al). Neste sentido, novos condutores nanoestruturados foram desenvolvidos baseados em cobre/nanotubos de carbono funcionalizados e dopados com iodo (Cu/NTC-f), como revestimento de fios de alumínio Al 1350, utilizando o processo de deposição eletroforética em solução de sulfato de cobre, sob correntes elétricas de 1,2 A, 1,5 A e 1,8 A, foram investigados quanto as suas propriedades elétricas e mecânica. Os condutores Al@Cu/NTC-f foram caracterizados por microscopia eletrônica de varredura; difração de raios-X; espectroscopia Raman; ensaio de tração, além de medições elétricas, em temperatura ambiente e sob aquecimento, via ponte de Kelvin. Os resultados mostram um aumento de aproximadamente 18% do IACS com boa estabilidade sob aquecimento em comparação ao condutor de alumínio comercial Al 1350, devido as propriedades intrínsecas dos NTCs, funcionalização, boa dispersão e ao efeito dopante do iodo, confirmado por
espectroscopia Raman com efeitos redshifts nas sub-bandas de Gint e Gext. A morfologia característica dos filmes finos de Cu/NTC-f, apresentaram estruturas piramidais, aglomerados, estruturas de cobre envolveram os NTCs, bem como NTCs eletrodepositados homogeneamente no substrato de alumínio com boa cristalinidade, cultivados nas direções CuI (311) e Cu (220), Cu (200), favorecendo a formação de filmes finos com boa cristalinidade. Este método de eletrodeposição de Cu/NTC-f na superfície de fios metálicos mostra-se promissor para a produção de condutores metálicos nanoestruturados de alta ampacidade, estabilidade térmica, baixa densidade e alto desempenho, aplicados em linhas de transmissão de energia elétrica.

MEMBROS DA BANCA:
Externo à Instituição - CARLOS EDUARDO CAVA
Interno - 2178124 - EDUARDO DE MAGALHAES BRAGA
Externo à Instituição - LAÉRCIO GOUVÊA GOMES
Presidente - 1889786 - MARCOS ALLAN LEITE DOS REIS
Interno - 2270778 - VERONICA SCARPINI CANDIDO